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（CWW）6月30日，荷蘭政府頒布了有關半導體設備出口管制的新條例。ASML在公告中指出，這些新的出口管制條例針對對象為先進的芯片制造技術，包括最先進的沉積設備和浸潤式光刻系統。

根據新出口管制條例規定，ASML需要向荷蘭政府申請出口許可證才能發運最先進的浸潤式DUV系統（只涉及TWINSCAN NXT：2000i及后續推出的浸潤式光刻系統），荷蘭政府將決定是否授予或拒發出口許可證，并將向ASML提供許可證所附條件的細節。

新出口管制條例將于2023年9月1日生效，在此日期前，ASML可開始提交出口許可證申請。荷蘭政府將視具體情況批準或拒絕這些申請。ASML表示，將繼續遵守適用的出口管制條例，其中包括荷蘭、歐盟及美國的出口管制條例。

此前，ASML的EUV光刻系統已經受到限制，但其他光刻系統的發運未受荷蘭政府管控。